Thermodynamik von CVD-Prekusoren

Eigenschaften von CVD-Prekusoren

Beschreibung

Bei der Herstellung dünner Schichten aus der Gasphase mit Hilfe des CVD (= Chemical Vapor Deposition) Prozesses sind die thermische Stabilität sowie die Dampf- bzw. Sublimationsdrücke entscheidende Größen für die Verfahrensauslegung. Daher werden verschiedene CVD-Vorläufersubstanzen experimentell bezüglich ihres Verdampfungsverhaltens untersucht. Thermogravimetrie im isothermen Modus und eine Knudsenzelle wurden eingesetzt um die Langzeitstabilität wie auch die Sublimationsdrücke und Diffusionskoeffizienten als Funktion der Temperatur zu bestimmen. Für eine unabhängige Messung der Diffusionskoeffizient wird eine Quarzmikrowaage eingesetzt.

Publikationen

  • M.A. Siddiqi, R. A. Siddiqui, B. Atakan:
    Diffusion coefficients for some organic and organometallic compounds using quartz crystal microbalance.
    In: Thermochimica Acta ** (2012), S. 152-158 (MAR 20, 2012).
    DOI 10.1016/j.tca.2011.05.009  

  • Ilona Jipa, M. Aslam Siddiqi, Rehan A. Siddiqui, Burak Atakan, Hubertus Marbach, Till Cremer, Florian Maier, Hans-Peter Steinrück, Katja Danova, Nadejda Popovska, Frank W. Heinemann, and Ulrich Zenneck:
    Methylated [(benzene)(1,3-butadiene)Ru0] Derivatives as Novel MOCVD Precursors with Flavorable Properties
    .
    In: Chem. Vap. Deposition 2011, 16, 1-7.
    DOI:10.1002/cvde.201006853.

  • Ilona Jipa, Katya Danova, Danejda Popovska, M. Aslam Siddiqi, Rehan A. Siddiqui, Burak Atakan, Till Cremer, Florian Maier, Hubertus Marbach, Hans-Peter Steinrück, Frank W. Heinemann and Ulrich Zenneck:
    Methylated [(arene)(1,3-cyclohexadiene)Ru0] complexes as low-melting MOCVD Precursors with a controlled follow-up chemistry of the ligands.
    In: J. Mater. Chem., 2011, 21, 3014-3024;
    DOI:10.1039/c0jm02652b ;

  • Ilona Jipa, Frank W. Heinemann, Andreas Schneider, Nadejda Popovska, M. Aslam Siddiqi, Rehan A. Siddiqui, Burak Atakan, Hubertus Marbach, Christian Papp, Hans-Peter Steinrück, and Ulrich Zennek: [cis-(1,3-Diene)2W(CO)2] Complexes as MOCVD Precursors for the Deposition od Thin Tungsten - Tungsten Carbide films.
    In: Chem. Vap. Deposition 2010, 16, 239-247.
    doi:10.1002/cvde.201006852.

  • M.A. Siddiqi, R. A. Siddiqui, B. Atakan:
    Thermal Stability, Vapor Pressures, and Diffusion Coefficients of Some Metal 2,2,6,6-Tetramethyl-3,5-heptandionate [M(tmhd)n] Compounds.
    In: J. Chem. Eng. Data 55 (2010), 2149-2154.

  • M.A. Siddiqi, R. A. Siddiqui, B. Atakan, N. Roth, H. Lang:
    Thermal Stability and Sublimation Pressures of Some Ruthenocene Compounds. Materials 3 (2010), 1172-1185.

  • M.A. Siddiqi, R. A. Siddiqui, B. Atakan: Thermal Stability, Sublimation Pressures and Diffusion Coefficients of Anthracene, Pyrene, and Some Metal ß-Diketonates.
    In: J. Chem. Eng. Data 54 (2009), 2795-2802.

  • M.A. Siddiqi, R. A. Siddiqui, B. Atakan:
    Thermal Stability, sublimation pressures and diffusion coefficients of some metal acetyacetonates.
    In: Surface & Coating Technology 201 (2007), 9055-9059.

  • A. Schneider, N. Popovska, I. Jipa, B. Atakan, M.A. Siddiqi, R. Siddiqui, U. Zenneck:
    Minimizing the Carbon Content of Thin Ruthenium Films by MOCVD Precursor Complex Design and Process Control.
    In: Chem. Vap. Deposition 13 (2007), 389-395.

  • M.A. Siddiqi, B. Atakan:
    Combined Experiments to measure low sublimation pressures and Diffusion Coefficients of Organometallic Compounds.
    In: Thermochimica Acta 452 (2007), 128-134.

  • B. Atakan, M.A. Siddiqi: Cobalt Diketonate Complexes as CVD-Recursors:
    Issues of Stability and Vapor Pressure.
    In: Proceedings of the Internation Symposium, EUROCVD-15, The Electrochemical Society Inc., USA, 9 (2005) 229-236.

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