Beschreibung: |
Ausgehend von den physikalisch-chemischen Grundlagen werden Verfahren und Anlagen der Nanotechnologie vorgestellt. Die Einteilung erfolgt nach dem Aggregatzustand der wichtigsten beteiligten Phase. Der Schwerpunkt liegt bei Gasphasenverfahren und Transportprozessen. Dabei wird von einfachen, aber grundlegenden Modellen zur Beschreibung der Materie ausgegangen (z.B. dem ideales Gasgesetz) und daraus die wichtigsten mathematischen Beschreibungen entsprechender Verfahren und Anlagen der Nanotechnologie (z.B. Molekularstrahlepitaxie) entwickelt.
Themen sind:
0 Einführung Überblick, Konzept der Grundoperationen, Bilanzierung und Stoffmenge
1 Gase 1.1 Kinetische Gastheorie - Vakuum 1.2 Transportprozesse in Gasen 1.3 Vakuumtechnik – Grundoperation Vakuumerzeugung 1.4 Physikalische und Chemische Umwandlung von Gasen in kondensierte Materie (MBE, CVD)
2 Flüssigkeiten 2.1 Flüssigkeitsmodell 2.2 Transportprozesse in Flüssigkeiten 2.3 Fluiddynamik 2.4 Schichtherstellung aus der flüssigen Phase (Spincoating)
(Festkörper werden nicht behandelt) |
Literatur: |
Grundlagen • P. W. Atkins, Physical Chemistry, Oxford University Press • Manuel Jakubith, Grundoperationen und Chemische Reaktionstechnik, VCH
Vakuumtechnik • M. Wutz, H. Adam und W. Walcher, Theorie und Praxis der Vakuumtechnik, Vieweg 2006
Vertiefung - Partikel und Schichten • Milton Ohring, Materials Science of Thin Films – Deposition and Structure, Academic Press 2002 • Toivo T. Kodas and Mark Hampden-Smith, Aerosol Processing of Materials, Wiley 1999
Vertiefung - Nanotechnologie • R. Waser (ed.), Nanoelectronics and Information Technology, Wiley-VCH 2003
Vertiefung - Verfahrenstechnik • Hong H. Lee, Fundamentals of Microelectronics Processing, McGraw-Hill Publishing Company 1990 • Stanley Middleman and Arthur K. Hochberg, Process Engineering Analysis in Semiconductor Device Fabrication, McGraw-Hill, Inc. 1993
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