| Beschreibung: |
Die Veranstaltung bietet einen Überblick über die Verfahren der ‚top-down’ Technologie zur Herstellung von Nanostrukturen. Dies beinhaltet
- Dünnschichttechniken (physikalische und chemische Verfahren)
- Grundlagen der Epitaxie (Molekularstrahlepitaxie, Gasphasenepitaxie), epitaktische Herstellung von Schicht- und Punktstrukturen
- Prinzip der Lithografie, optische Abbildung, optische Lithografie
- Elektronenstrahl-Lithografie und Ionenstrahl-Lithographie
- Verfahren der Strukturübertragung (Lift-off Technik, Ätzverfahren, LIGA Technik)
- Ausgewählte moderne Methoden wie EUV-Lithographie, Röntgenlithographie, Projektionsverfahren
- Nanolithographie und Atommanipulation
- druckende und umformende Verfahren
Anhand von ausgewählten Beispielen soll das Anwendungspotenzial der ‚top-down’ Technologie dargelegt werden. |
| Lernziele: |
Lernziel der Veranstaltung ist das Verständnis über grundlegende Nanostrukturprozesse im Bereich der ‚top-down’ Technik. Die Studierenden können am Ende der Veranstaltung die grundlegenden Konzepte, Möglichkeiten und Grenzen der top-down Technik nachvollziehen. Sie sind in der Lage, für definierte Problemstellungen die am besten geeigneten top-down Techniken auszuwählen. |
| Literatur: |
Mikrosystemtechnik für Ingenieure, W. Menz, J. Mohr, O. Paul, Wiley VCH Weinheim, 2005
Micro-Nanofabrication, Z. Cui, Springer, 2005
Nanotechnologie, M. Köhler, Wiley VCH Weinheim, 2001
Nanostructures and Nanomaterials, G. Cao, Imperial College Press London, 2004
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