Das Rasterkraftmikroskop (AFM) ist ein unverzichtbares Werkzeug für die Nanowissenschaften, das es ermöglicht, Oberflächenstrukturen mit atomarer Präzision zu visualisieren und physikalische Eigenschaften direkt auf der Nanometerskala zu charakterisieren. Durch die Kombination von hoher Auflösung und vielfältigen Messmodi unterstützt das System Forschende dabei, ein tieferes Verständnis für die Korrelation zwischen Struktur und Materialeigenschaften zu gewinnen.

Funktionen

Informationen über: Topographie, Größe und Höhe von Nanokomponenten, sowie mechanische, chemische und elektronische/elektrische Eigenschaften auf der Nanometerskala.

Mit dem Bruker Dimension Icon / Dimension FastScan lassen sich Oberflächen hochauflösend abbilden und materialspezifisch untersuchen. Neben der Topographie können lokale mechanische (z. B. Härte, Elastizität, Adhäsion), elektrische (z. B. Leitfähigkeit, Oberflächenpotenzial) und chemisch relevante Kontraste bestimmt werden. Der FastScan-Modus ermöglicht die Untersuchung schneller, dynamischer Prozesse ; zusätzliche Module erlauben Conductive-AFM (TUNA/pcAFM), KPFM, SSRM, QNM sowie kontrollierte Messungen in Flüssigkeiten und unter variabler Temperatur.

Materialien

Anorganische und organische Materialien; Messung empfohlen auf glatten Substraten (z. B. Si, Glas, Glimmer, beschichtete Substrate).

Leistungsdaten

• Laterale Auflösung: < 20 nm

• Vertikale Auflösung (Z): < 0,1 nm

• Scanbereich (XY): 90 µm × 90 µm (max.)

• Max. Z-Hub: 10 µm

• Bildgröße: bis zu 5120 × 5120 Pixel

• Verfügbare Modi / Erweiterungen: PeakForce TUNA, pcAFM, PeakForce KPFM, PeakForce SSRM, PeakForce QNM (u. a.)

Besonderheiten

• FastScan: Für die Untersuchung dynamischer Prozesse

• Nanolithographie / -manipulation: Ermöglicht gezielte Modifikationen

• Umgebungsbedingungen: Durchflusszelle für Messungen in wässrigen Medien und Gasen

• Temperatursteuerung: -35 °C bis 250 °C

• Präzision: Motorisierte Probenpositionierung mit ca. 3 µm Auflösung