Raster-Elektronen-Mikroskopie

Das Labor für Elektronenmikroskopie besitzt Elektronenmikroskope mit Beschleunigungsspannungen zwischen 0.05 kV und 30 kV und einer Auflösung bis 1.2 nm.

 

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Rastersonden-Mikroskopie

Rastersonden-Mikroskopie

In der Rastersonden-Mikroskopie werden derzeit zwei Rasterkraft- Mikroskope mit einer Ortsauflösung von 15 nm und folgenden Techniken eingesetzt:

  • Topografiemessungen (Kontakt-,  Nichtkontakt- und Tapping-Modus)
  • Kelvin-Probe-Force-Mikroskopie
  • Lokale Potenzial-, Spannungs-, und Strommessungen  Auflösung: einige µA, 5mV
  • Magnetkraftmikroskopie
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Nanotechnologie und Präparation

Der Lehrstuhl verfügt über einen modern ausgestatteten 120 m² großen Reinraum der Klassen 100 und 1000. Folgende Geräte gehören zur Reinraumausstattung:

  • Elektronenstrahl-Lithographieanlage
  • Aufdampfanlage mit thermischer Verdampfung und Elektronenstrahlverdampfung,
    Sputteranlage
  • Maskenjustiergerät, Photolackschleuder
  • Ultraschallbonder, Vakuumofen, Ausheilofen, Rohrofen, Ozonreiniger
  • Geräte zum Dispergieren von Nanopartikeln (Tip Sonicator, Zentrifuge)
  • Spitzenmessplätze
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Optische Spektroskopie

Mehrere Laser-Labore stehen für unterschiedliche Techniken der optischen Spektroskopie zur Verfügung. Der Fokus liegt auf hochorts- und zeitaufgelösten Experimenten im Temperaturbereich von 2 K – 300 K, teilweise unter Einwirkung stationärer und transienter externer Felder (Magnetfeld, elektrisches Feld). Schwerpunkte bilden die folgenden Messtechniken:

  • Zeit- und ortsaufgelöste Photolumineszenz-Spektroskopie (~ ps, < µm)
  • Zeit- und ortsaufgelöste Kerr-/ Faraday Rotation (~ps, < 10 µm)
  • g(2)-Korrelationsmessungen (Photonenstatistik)
  • Magnetooptik (ortsaufgelöste Magnetolumineszenz, MCD
  • Mikro-Photolumineszenz/Mikro-Elektrolumineszenz-Spektroskopie
  • Hochortsaufgelöste Photostrom- / Photospannungs-Messungen (< µm)
  • UV-VIS-Spektrophotometer, Photodioden zur Messung externer Quantenausbeute
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