Dienstleistungen

  • Wissenschaftliche und technische Beratung zur Herstellung und Analytik von Nanostrukturen für die Halbleiterindustrie und die Optoelektronik
  • Technische Beratung bei Fragen zur elektrischen und physikalischen Messtechnik
  • Durchführung von Serviceleistungen im Bereich Technologie und Analytik
  • Durchführung von Fortbildungsmaßnahmen für Industrie, KMUs und Ausbildungsstätten

Rastersonden-Mikroskopie

Wir analysieren Materialien und Oberflächen im Hinblick auf Topographie und Rauigkeit, bestimmen lokale Potenzial und Stromverteilungen in mikro- und optoelektronischen Bauelementen und messen Magnetfelder und Leitfähigkeiten mit einer Auflösung bis hinab zu 10 nm. Hierfür kommen folgende Techniken zum Einsatz:

  • Kelvin Force-Mikroskopie
  • Rastersonden-Strom- bzw. Spannungs-Messtechnik
  • Magnetkraftmikroskopie
  • Leitfähige Rasterkraftmikroskopie

Apparaturen

Elektronen-Mikroskopie

Wir präparieren Materialien und Bauelemente (Metall-Halbleiter-Hybride, Halbleiter-Heterostrukturen, Nanopartikel, optoelektronische Bauelemente) für Elektronenmikroskopie und führen elektronenmikroskopische Messungen an den verschiedensten Materialien und Objekten durch. Die Beschleunigungsspannung kann dabei im Bereich von 50 V bis 30 kV eingestellt werden. So sind auch empfindliche und isolierende Proben zugänglich.

Apparaturen

Orts- und zeitaufgelöste optische Spektroskopie

Wir charakterisieren Halbleiterproben mit hoher Orts- (sub-1µm) und Zeitauflösung (ps-Bereich). Neben der Analyse optoelektronischer Bauelemente sind wir auf die Untersuchung von magnetischen Halbleitern und Halbleiter-Ferromagnethybride sowie von Halbleiter-Nanostrukturen und Nanopartikel spezialisiert. Über zeitaufgelöste Messungen können charakteristische Lebensdauern in Halbleitern, Nanostrukturen und Bauelementen bestimmt werden. Hier bieten wir folgende Techniken an:

  • Hochortsaufgelöste Magnetooptik
  • Mikro-Photolumineszenz-Spektroskopie
  • Zeitaufgelöste Photolumineszenz-Spektroskopie

Apparaturen

Nanotechnologie und Präparation

In einem Reinraum der Klassen 100 und 1000 steht uns eine breite Palette an nanotechnologischen Verfahren zur Verfügung. Laterale Nanostrukturen mit Strukturgrößen bis hinab zu 20 nm können erreicht werden. Folgende Techniken kommen zum Einsatz:

  • Elektronenstrahl-Lithographie
  • Optische Lithographie
  • Metallisierung durch Aufdampfen und Sputtern
  • Nasschemische Ätzverfahren und Halbleiter-Prozesstechnik
  • Kontakttechnologie mit Ultraschallbondern

Einsatzgebiete sind vornehmlich Verbindungs-Halbleiter und Metall-Halbleiter Hybridstrukturen.

Apparaturen