REM Zeiss

Raster-Elektronenmikroskopie (REM)

Zeiss LEO 1530

  • Feldemissions Kanone (FEG)
  • Bis zu 30 kV Beschleunigungsspannung
  • Wassergekühltes Linsensystem
  • Laterale Auflösung 1.2nm
  • Druck am Probenort: 10-6 mbar
  • Maximale Probendurchmesser: 50 mm

Detektoren

  • In-lens Detektor
  • SE2 Sekundärelektronen-Detektor
  • Robinson backscatter Detektor
  • Strukturelle Untersuchungen mit Oxford Instruments Nordlys EBSD Detektor
  • Bestimmung der chemischen Zusammensetzung mit Oxford Instruments XMAX 80mm² EDX Detektor

Kontakt:
U. Wiedwald
D. Spoddig

Elektronenstrahllithographie (EBL)

Raith ELPHY Plus System

  • Min. Linienbreite: 25nm
  • Maximale Schreibfeld: 4000²µm²
  • Schrittweite: 3nm @ 200µm
  • Verschiedene positive und negative Elektronenstrahl Fotolacke
  • Fotolacke mit Dicken bis zu 1000nm