Aspen

Beschreibung

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​​Aspen
Aspen HYSYS ist ein chemischer Prozesssimulator, der zur mathematischen Modellierung chemischer Prozesse verwendet wird, von Einzeloperationen bis hin zu kompletten Chemieanlagen und Raffinerien.

Bezugsberechtigt Mitarbeiter/innen
Kosten

Die Kosten der Lizenz werden durch die Anzahl der insgesamt daran beteiligten Lehrstühle geteilt. Federführend wird die Hochschullizenz von den folgenden verantwortlichen Lehrstühlen des Fachbereichs Ingenieurwissenschaften getragen:

  • TEE (Technik der Energieversorgung und Energieanlagen), Prof. Romey
  • LUAT (Lehrstuhl für Umweltverfahrenstechnik und Anlagentechnik), Prof. Görner
Lizenzmodell Mietlizenz
Laufzeit  
Version  
Systemvoraussetzung  
Alternativen  
nutzbar über VDI nein
Herstellerinformation

Aspentech

Datenschutzerklärung (englisch)
Bezug

Zur Bestellungen der Software wenden Sie sich bitte an software.zim@uni-due.de.
Installationsanleitung  

Hinweise

Dieses Paket umfasst die folgenden Module:

  1. Aspen Plus®
  2. Aspen Plus Optimizer™
  3. Aspen Properties®
  4. Aspen Dynamics®
  5. Aspen CustomModeler®
  6. Aspen Batch Plus®
  7. Aspen SPLIT™ Option
  8. Aspen Icarus Process Evaluator™
  9. Aspen RateSep